3月30日晚，中微公司披露2025年年度报告。

报告显示，公司全年实现营业收入123.85亿元，同比增长36.62%，经营业绩创下历史新高；实现归属于母公司所有者的净利润约21.11亿元，同比增长约30.69%。

核心业务方面，2025年公司刻蚀设备销售约98.32亿元，同比增长约35.12%。截至2025年底，刻蚀设备反应台全球出货量超6800台，应用范围覆盖65纳米至3纳米及更先进制程。

公司自主研发的CCP高能等离子体刻蚀设备和ICP低能等离子体刻蚀设备已覆盖95%以上的三百多种刻蚀应用需求。其中，60比1超高深宽比刻蚀设备在存储器生产线上实现稳定大批量生产，新开发的晶圆边缘刻蚀设备和金属刻蚀机也已进入客户端生产线验证。

薄膜沉积设备业务也迎来爆发式增长，2025年LPCVD设备销售约5.06亿元，同比增长224.23%。目前，公司正推进六大类、超20款新设备的研发，涵盖先进刻蚀设备、薄膜设备、外延EPI设备、电子束量检测设备等领域。

同日，中微公司发布发行股份及支付现金购买资产并募集配套资金报告草案，拟以15.76亿元收购杭州众硅64.69%股权。

杭州众硅是国内少数可批量供应12英寸CMP设备的厂商，产品已切入国内知名存储及逻辑芯片制造厂商。交易完成后，杭州众硅将成为中微公司控股子公司。

中微公司表示，本次收购将助力公司形成“刻蚀+薄膜沉积+量检测+湿法”四大前道核心工艺能力，实现从“干法”向“干法+湿法”整体解决方案的关键跨越，有望缩短客户工艺验证周期，加速国产设备在主流产线的规模化渗透。